全自动智能蒸馏装置

　　全自动智能蒸馏仪，微电脑控制，实现整个蒸馏过程操作简单，6组样品独立控制，无需值守，节水节电，具备控温、自动蒸馏、循环冷凝、防倒吸、防爆沸、蒸馏量任意设定等功能。

　　应用范围： 适用于水质、土壤、食品、固废等样品检测项目中：青化物、挥发酚、氨氮、COD、甲醛、二氧化硫、酒精度、阳离子交换量等应用蒸馏法的所有前处理项目。

　　1、国标经典方法，六个通道独立控制，无人值守自动蒸馏;

　　2*、 具有接收瓶自动升降功能，*遵循国标要求;

　　3*、全化玻蒸馏装置，无硅胶管连接，符合国标;

　　4*、菜单式设计，一键选择样品方法;

　　5*、外置大功率冷却水循环机，冷却效果好，维护简单;

　　6、一机多用，可检测多种样品;

　　7、高精度称量定容，一键调零;

　　三、技术优势

　　1.工作条件

　　电源:AC 220V ,50Hz

　　环境温度:10-35℃

　　环境湿度:≤60%

　　2.多功能蒸馏器产品技术参数

　　2.1加热功率:单孔加热功率0-500W可单孔任调

　　2.2温度控制: 室温-500℃可单孔任调

　　2.3加热时间控制: 0-300min可任设

　　2.4升温时间:10min

　　2.5 蒸馏误差: ≤±1ml

　　2.6蒸馏终点精度:0.1mlg

　　2.7 称量范围：0.1-1000ml

　　2.8终点控制: 压力传感器+时间+锁定

　　2.9 加热方式: 远红外陶瓷辐射加热

　　2.10通讯接口: RS485通讯接口

　　2.11仪器尺寸: 932*415*760mm

　　3.产品性能指标

　　3.1加热单元

　　3.1.1加热装置采用远红外陶瓷辐射加热，热转换效率高，均匀受热,功耗小,均可单孔单控;

　　3.1.2 每个加热位设有防干烧功能，具备样品反应容器干烧(无液)保护，爆沸保护，防倒吸保护，确保实验安全有效进行;

　　3.2控制系统

　　☆3.2.1 系统采用5寸液晶触摸屏设计,菜单设有微沸和全沸控制模式，根据不同的样品沸点，采用编程方式设置不同时间段的加热功率。

　　☆3.2.2系统可设置蒸馏量、蒸馏时间及密度，实时显示运行状态、蒸馏量、剩余加热时间,智能控制无需人工值守。

　　3.3冷却水循环系统

　　☆3.3.1具有外置冷循环系统，冷凝水温度实时显示，流速控制，缺水报警，压缩机过载保护，可选择使用外部水源或外置冷水机两种冷却方式。

　　☆3.3.2具备外部水源自动启动、截止功能，节省能耗，节约用水。

　　3.4蒸馏系统

　　☆3.4.1蒸馏终点控制单元采用压力传感器控制技术，可实现单孔设定馏出液体积智能换算单位值，实时显示蒸馏体积及重量，也可通过系统设置蒸馏时间,待蒸馏结束后自动锁止并停止加热。

　　3.4.2 设有防过量蒸馏保护系统，在每个馏出液位设有防过量保护装置，蒸馏结束后系统智能锁定馏出液，确保蒸馏完成量的准确性。

　　3.4.3为保证馏出液量不损耗，蒸馏结束后系统自动切断加热电源，同时系统自动启动防倒吸保护装置，防止烧瓶内形成负压，造成馏出液回吸。

　　3.4.4冷凝管要求真空蛇形方式，避免遇冷回流，馏出液管路进气与出气管路中未有任何开口或磨砂塞，避免馏路密封差导致样品损失。

　　3.5清洗系统

　　☆3.5.1馏出液管路一键智能清洗，无需人员拆卸瓶体或者手工加液清洗，确保清洗*无残留。

　　☆3.5.2蒸馏操作完成后按清洗键可自动吸入纯水，可实现自馏出液接收端至烧瓶加热端多路单项反向冲洗，也可一键六路同时反向冲洗。

　　3.6冷凝单元

　　3.6.1 采用真空蛇形冷凝管避免遇冷回流，馏出液管路进气与出气管路中未有任何开口或磨砂塞，避免馏路密封差导致样品损失。

　　多功能蒸馏器(氨氮蒸馏器、挥发酚蒸馏器、青化物蒸馏器)采用目前上新的远红外加热方法，具有热效率高、寿命长、起温和降温速度快、加热时间和加热功率可调等优点。仪器可外接循环水冷却装置。整个系统简洁、安装维护方便、使用可靠。

　　近日，据科技日报报道称，从中国科学技术大学得知，该校工程科学学院热科学和能源工程系夏维东教授团队与合作者，提出“利用磁分散电弧产生大面积均匀热等离子体合成石墨烯”这个新方法，突破了此前热等离子体工艺高能耗、产品低均匀性以及生产不稳定性等技术瓶颈，让石墨烯有望能大规模连续生产。

　　之前一般采用射频感应加热和微波加热等离子的方法来制备石墨烯能耗高，而且合成石墨烯要求的反应时间为毫米级，难以实现均匀加热，导致产品的均匀性很差，难以工业化应用。而夏维东教授团队采用的磁分散电弧产生的大面积均匀等离子体技术，很好地解决了上述技术的高能耗和加热不均匀等问题。

　　不仅如此，用该技术所制备的石墨烯平面尺寸为50-300nm，层数有2-5层，具有良好的晶体结构和超大的表面积。而且制备方法和设备都很简单，一步合成不需要还原，也不需要基底、催化剂、溶液等，重要的是成本还很低，这些都具备低成本大规模工业化应用的必须条件。